热搜关键词：流体抛光机,磨粒流抛光设备,内孔抛光

    流体抛光机与其他传统抛光去毛刺设备的最大区别在于，研磨介质不同，传统抛光设备，无论是砂带、砂轮、布轮、磁力、超声波、振动研磨等，他们的研磨介质都是固体，只是材质与颗粒度大小有区别。而流体抛光机所使用的研磨介质是液体或半流体，这一变化在抛光史上是具有革命意义的。因为我们都知道，只有液体才可以真正意义上的不受工件结构影响，而固体研磨介质，是没办法的。

流体抛光机

    传统内孔抛光方式，根据抛光的原理，可以分为两类，一类是电化学抛光，原理是利用电解液、化学溶液进行表面侵蚀，这种方式在如今，对于污水排放是个很大的问题。第二类是磁力、超声波内孔抛光，原理是利用微细固体介质的高速碰撞与振动，进行表面研磨。这类方式更加清洁，成本也不高，但是在内孔抛光的效果上，往往存在毛刺残余或粗糙度值过高的情况。

    手机零部件多为小尺寸、不规则、含细孔结构，这类工件进行批量抛光之前是用电化学方式，将粗胚零件放入溶解液或电解液中浸泡，经过一定时间后取出冲洗。但随着国家在环保上的重视程度越来越高，这种抛光方式受到了极大的限制。为了寻找替代方案，手机零部件生产商做出了两个选择，其一是工件加工过程中严格控制毛刺和粗糙度，尽量一次成型不需要再抛光。

    用磨粒流设备抛光时，需要达到的效果或需要完成的任务，如镜面效果，或只是去除毛刺，或标准抛光，流体抛光或按照客户指定的要求与部位进行抛光。好处在于，操作人员可以通过图形标识快速了解该工件的抛光要求，起到了醒目的提示作用。而如果没有这些标识，操作人员面对大量工件时，可能会忽略一些具体的操作要求。

    虽然磨粒流抛光在成本上必然高于电化学，但在保持精度上，磨粒流则优于后者。所以，客户虽然在成本端有所损失，但在销售端却得到了提升，总体来讲，并没有降低自己的竞争力，反而拥有了更高端手机的制造能力。虽然手机的软件系统现在被摆在了至高无上的地位，但好的软件如果没有过硬的硬件去运营，同样会卡顿会宕机。