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该客户在大连，之前已经买过一台斯曼克磨粒流设备了，因为新上了项目，所以又购了一台机器，用于超精密模具的内孔抛光。模具本身并不复杂，人工当然也可以抛，只是挺耗时，也达不到那种均匀的镜面效果。
模具内表面原始粗糙度Ra0.6μm，抛完之后达到0.08μm，我们先来看看抛光的过程：
高分子软磨料经过挤压进入模具内孔，实现上下循环式研磨，从而切削内表面粗糙颗粒，达到镜面状态。这种磨料不沾不黏，抛光完成后，很容易从模具上拿掉。但是有些劣质磨料就不行了，劣质磨料会粘的非常紧，很难清理。而且劣质磨料会延长抛光时间，如果斯曼克只需要3-5分钟抛光的话，劣质磨料可能需要10-20分钟。
这种超精密模具，内孔抛光本身不难，难的是不能对模具有一点点的划伤，有时候连布上的纤维，都会划伤模具，更别论如果磨料中掺入了杂质。因此对机器设备的封闭性、磨料的纯度、过滤系统、操作车间都有严格要求。
